반도체 기술 유출 (PG)[박은주 제작] 사진합성·일러스트
(서울=연합뉴스) 한주홍 기자 = 삼성전자가 수조 원을 투입해 독자 개발한 핵심 공정 기술을 빼돌려 중국에서 반도체 제조업체를 세운 혐의로 구속기소된 전직 삼성전자 임원이 첫 재판에서 혐의를 전면 부인했다.
중국 반도체 회사 '청두가오전'의 대표 최모(67)씨 측은 13일 서울중앙지법 형사합의24부(최경서 부장판사) 심리로 열린 첫 공판에서 "삼성전자의 기술 유출을 지시한 바 없고, 이에 대해 보고받은 바 없다"며 "문제가 된 기술은 공개된 정부 사이트에서 습득할 수 있는 정도의 정보"라고 주장했다.
이날 재판에서는 최씨의 보석 심문도 이뤄졌다. 최씨 측은 보유한 반박 자료가 많다며 방어권 행사를 위해 보석의 필요성이 있다고 주장했다.
삼성전자와 하이닉스반도체(현 SK하이닉스)에서 부사장을 지낸 최씨는 삼성전자 개발실장 출신인 오모(61)씨와 함께 2019년 말 중국 지방정부로부터 4천억원 상당을 투자받아 청두가오전을 설립하고, 삼성전자의 국가 핵심기술인 D램 공정 기술을 부정 사용해 20나노 D램을 개발한 혐의를 받는다.
이들은 삼성전자가 개발비 4조원을 투입해 개발한 국가 핵심기술을 빼돌려 D램 반도체 공정 기술을 1년 6개월 만에 개발함으로써 중국 내에서 두 번째로 D램 시범 웨이퍼 생산에 성공한 것으로 검찰은 보고 있다.
시범 웨이퍼는 적용한 기술이 실제 반도체로서 기능할 수 있는지 측정하는 기초 개발제품으로, 글로벌 반도체 회사들도 개발에 통상 4~5년이 소요되는 핵심기술로 알려졌다.
juhong@yna.co.kr
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