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中國晶片研發技術突破至7奈米？專家不認同：生產良率才是關鍵
中國晶片研發技術近期傳出重大突破，包括生產8奈米及以下晶片、申請極紫外光 (EUV) 設備專利等。然而，專家對此表示懷疑，認為良率才是關鍵。中國官方目前對此保持低調，尚無實際應用公開。
中國晶片研發技術近期傳出重大突破，包括生產8奈米及以下晶片、申請極紫外光 (EUV) 設備專利等。然而，專家對此表示懷疑，認為良率才是關鍵。中國官方目前對此保持低調，尚無實際應用公開。