Hi,
登出
你還沒有通知

研發技術

shutterstock_2318801847

中國晶片研發技術突破至7奈米?專家不認同:生產良率才是關鍵

科技 中央通訊社

中國晶片研發技術近期傳出重大突破,包括生產8奈米及以下晶片、申請極紫外光 (EUV) 設備專利等。然而,專家對此表示懷疑,認為良率才是關鍵。中國官方目前對此保持低調,尚無實際應用公開。

  翻译: